Titanium complex, method for producing the same, titanium-containing thin film and method for preparing the same

チタン錯体、その製造方法、チタン含有薄膜及びその製法

Abstract

【課題】高い蒸気圧及び高い熱安定性を持ち、チタン含有薄膜を製造するための優れた原料となる新規なチタン錯体、該錯体を用いた薄膜の製法を提供する。 【解決手段】一般式(1) (式中、R 1 及びR 4 は各々独立に炭素数1から16のアルキル基を示す。R 2 及びR 3 は各々独立に水素原子又は炭素数1から3のアルキル基を示す。R 5 はフッ素原子で置換されていても良い炭素数1から16のアルキル基を示す。)で表されるチタン錯体を製造し、それを用いてチタン含有薄膜を製造する。 【選択図】図3
<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a novel titanium complex which has a high vapor pressure and high thermal stability and comes to an excellent raw material for the production of a titanium-containing thin film and a method for preparing a thin film using the complex. <P>SOLUTION: The titanium complex represented by formula (1) (wherein R<SP>1</SP>and R<SP>4</SP>are each a 1-16C alkyl group; R<SP>2</SP>and R<SP>3</SP>are each hydrogen or a 1-3C alkyl group; and R<SP>5</SP>is a 1-16C alkyl group which may be substituted with fluorine) is produced and the titanium-containing thin film is produced with the use of the titanium complex. <P>COPYRIGHT: (C)2010,JPO&INPIT

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