Titanium complex, method for producing the same, titanium-containing thin film and method for preparing the same



【課題】高い蒸気圧及び高い熱安定性を持ち、チタン含有薄膜を製造するための優れた原料となる新規なチタン錯体、該錯体を用いた薄膜の製法を提供する。 【解決手段】一般式(1) (式中、R 1 及びR 4 は各々独立に炭素数1から16のアルキル基を示す。R 2 及びR 3 は各々独立に水素原子又は炭素数1から3のアルキル基を示す。R 5 はフッ素原子で置換されていても良い炭素数1から16のアルキル基を示す。)で表されるチタン錯体を製造し、それを用いてチタン含有薄膜を製造する。 【選択図】図3
<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a novel titanium complex which has a high vapor pressure and high thermal stability and comes to an excellent raw material for the production of a titanium-containing thin film and a method for preparing a thin film using the complex. <P>SOLUTION: The titanium complex represented by formula (1) (wherein R<SP>1</SP>and R<SP>4</SP>are each a 1-16C alkyl group; R<SP>2</SP>and R<SP>3</SP>are each hydrogen or a 1-3C alkyl group; and R<SP>5</SP>is a 1-16C alkyl group which may be substituted with fluorine) is produced and the titanium-containing thin film is produced with the use of the titanium complex. <P>COPYRIGHT: (C)2010,JPO&INPIT




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Patent Citations (3)

    Publication numberPublication dateAssigneeTitle
    JP-2007153872-AJune 21, 2007Sagami Chem Res Center, Tosoh Corp, 東ソー株式会社, 財団法人相模中央化学研究所チタン錯体、それらの製造方法、チタン含有薄膜及びそれらの形成方法
    US-2850512-ASeptember 02, 1958Nat Lead CoTitanium ester complexes
    US-5866205-AFebruary 02, 1999Micron Technology, Inc.Process for titanium nitride deposition using five- and six-coordinate titanium complexes

NO-Patent Citations (2)

    JPN6013054689; J.Am.Chem.Soc. 109, 1987, 6068-6076
    JPN6013054691; Journal of Organomemtallic Chemistry 662, 2002, 120-129

Cited By (2)

    Publication numberPublication dateAssigneeTitle
    US-9371452-B2June 21, 2016Tosoh Corporation, Sagami Chemical Research InstituteFilm-forming material, group IV metal oxide film and vinylenediamide complex
    WO-2013035672-A1March 14, 2013東ソー株式会社, 公益財団法人相模中央化学研究所Matière filmogène, film d'oxyde d'un métal du groupe iv et complexe vinylène diamide