電子吸引基を有する塩基性添加剤を含有するシルセスキオキサン樹脂システム

Abstract

【課題】新規なシルセスキオキサン系組成物を提供する。 【解決手段】(a)HSiO 3/2 単位及びRSiO 3/2 単位を有するシルセスキオキサン樹脂(式中、Rは酸解離性基を示す。)と、(b)7−ジエチルアミノ−4−メチルクマリンと、を含有するシルセスキオキサン系組成物。このシルセスキオキサン系組成物は、基板上にパターン形状を形成する際のポジ型レジスト組成物として有用であり、特に193nm及び157nmの多層(すなわち2層)フォトリソグラフィ用途において有用である。 【選択図】なし

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